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多弧離子鍍膜設(shè)備

       電弧離子鍍膜技術(shù)優(yōu)點(diǎn)是金屬離化率高、鍍膜速度快、薄膜附著力強(qiáng)、繞射性好，與磁控濺射技術(shù)配合使用不僅能明顯地改進(jìn)了膜層質(zhì)量，而且應(yīng)用范圍更廣。多弧離子鍍膜設(shè)備主要用于金屬零件、塑料件、玻璃件、陶瓷件等表面鍍膜，使之達(dá)到裝飾（在工件表面鍍制各種顏色：金色、藍(lán)色、槍黑色……）防腐、改善工件性能（增加表面硬度、耐磨性、隔熱性……）等效果。

產(chǎn)品詳細(xì)

主要性能特點(diǎn)：

◆鍍膜室規(guī)格及工件軸尺寸通用性廣，可適應(yīng)不同形狀及規(guī)格的工件。

◆可選配矩形平面大弧源或柱狀陰極電弧源。

◆增加配置圓柱型或平面型磁控濺射靶，應(yīng)用范圍更廣。

◆配置各種增強(qiáng)離化裝置，可有效提高膜層質(zhì)量，應(yīng)用范圍更廣。

◆采用可編程控制器（PLC),觸摸屏（HMI)人機(jī)控制界面，操作簡(jiǎn)單易用。


設(shè)備型號(hào)：

DXLDL-1620


真空室尺寸（mm)：

￠1600XH2000        


備注：

設(shè)備尺寸及配置可按客戶(hù)要求訂做

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